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技術(shù)研發(fā)
石英坩堝的用途
  除工業(yè)用于粉末煅燒等用途之外,石英坩堝主要是用于單晶材料拉制時(shí)的容器,特別是CZ法硅單晶材料拉制時(shí)的容器。
  眾所周知,CZ發(fā)拉制的單晶硅材料廣泛用于半導(dǎo)體器件和太陽(yáng)能電池板的制備。
  高純度的多晶硅原料,在1500度左右高溫下熔化成硅液,而石英坩堝就是盛放該高溫硅液的容器。從該高溫溶液中拉制出來(lái)的單晶硅棒之后被切成硅片,用作制作半導(dǎo)體器件或單晶硅太陽(yáng)能電池板。
  迄今為止,石英坩堝是最適合制作該容器的材料,它可以最大程度的保證硅液的純度,且在高溫環(huán)境下可以保持較長(zhǎng)時(shí)間而不發(fā)生變形。

石英坩堝生產(chǎn)方法
  石英坩堝一般是通過(guò)旋轉(zhuǎn)模具電弧法制作。通過(guò)該方法制作的石英坩堝毛坯依次經(jīng)過(guò)外表面磨砂處理、高度切割、化學(xué)清洗等包裝入庫(kù)。
  在此過(guò)程中,石英坩堝執(zhí)行嚴(yán)格的檢驗(yàn)過(guò)程,譬如外觀缺陷、尺寸精度、表面清潔度等。

技術(shù)研發(fā)
  我們生產(chǎn)的石英坩堝一般是由兩層結(jié)構(gòu),其中內(nèi)層為幾乎不含氣泡的透明層,外層是含有大量氣泡的不透明層。內(nèi)層透明層直接與高溫硅液接觸,它的質(zhì)量對(duì)硅單晶拉制過(guò)程和質(zhì)量影響甚大。外層不透明層主要是散射來(lái)自高溫石墨加熱器的輻射熱量,為單晶硅制作提供相對(duì)穩(wěn)定的熱場(chǎng)環(huán)境
  并且,石英坩堝的純度可根據(jù)客戶(hù)要求進(jìn)行制作?,F(xiàn)在最內(nèi)層為超高純合成石英的合成石英坩堝廣發(fā)應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域。
  現(xiàn)在,我們可以提供不同規(guī)格要求的石英坩堝產(chǎn)品。未來(lái),更多的更好的產(chǎn)品將會(huì)和客戶(hù)合作開(kāi)發(fā)。




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